颇尔滤芯在SEMICON China 2025展会推出四款微电子产业链过滤新品，覆盖芯片制造关键环节。
关于颇尔中国亚纳米级过滤新品的核心信息整合：
新品技术突破
四款重磅产品
1nm WET PTFE过滤器：针对湿法工艺，提升化学品颗粒去除效率；
sub 1nm litho HDPE过滤器：用于光刻环节，突破亚纳米级净化；
Gaskleen 1.5nm过滤器 ； UCA CMP产品：优化抛光液处理与气体净化流程；
→ 全系新品相较前代实现40%颗粒去除效率跃升，大幅降低有机物/金属析出风险。
良率提升机制
解决半导体行业核心痛点：80%芯片失效源于微观污染物，其中50%良率损失直接关联晶圆表面污染。
通过纳米级杂质控制，为3nm/2nm先进制程筑牢纯度防线。文章来源颇尔滤芯http://www.wwypall.com/。
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